也是在30nm之前，基本上无人往这个方向思考的原因。

　　其次，成本。

　　加工一块芯片所需要的加工工序数目增加了。原来一次加工的步骤，现在要两次，甚至四次才可以。

　　这在商用芯片的制造上，是很致命的。

　　例如，如果只采用一次加工，良品率为7成。这完全是个可以接受的数字。但是当一次加工，改成四次加工的时候，整个工艺的良品率就会下降到2成。

　　多重图案法的核心，是把一张图片分解成多张。这里还会存在分图片互相校准的问题。所以，在实际的生产过程中，采用这种工艺以后，其良品率会极大降低。

　　用刚才的例子数据来计算，良品率，会从7成，下降到不到一成！

　　英特尔之所以在10nm节点，耗费了接近5年的时间，跟他们的多重四图案曝光（SAQP）良率较低，有关系。

　　对于一个芯片厂来说，良品率就是他们的饭碗。

　　如果在14nm的时候，芯片成本是300美元。升级芯片生产工艺的目的，自然是因为进程越高，占用的晶圆面积越小。采用新工艺后，芯片的生产成本，也自然降低。同样功能芯片，它的成本在10nm时代，应该降为150美元才对。

　　但这种工艺，增加了工序的数目，实际上已经增加了芯片的加工成本。再加上良品率的问题，采用新方法生产出来的芯片，弄不好成本还高于300美元了。

　　在这种情况下，为什么要量产10nm?

　　在intel占据垄断地位的时候，表现就更为突出。这也是PC的CPU连续多年，速度根本没有怎么提升的根本原因。

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　　但这个理由，对全彩无效，对光电无效。

　　全彩，乃至光电，并不是一间芯片公司，这个10nm工艺解决的是有无问题，生死问题。

　　这就与花为一样。花为是卖芯片的吗？

　　不是！他是卖5G系统！

　　有了这300美元的芯片，几万美元的系统就能卖出去！没有，死路一条！

　　这里的进程升级，节省的不是那150美元的成本。它的价值是几万美元！

　　全彩也是同样道理。有了这十几美元的芯片，上千美元的显示器就能卖出去！这款芯片，代表的不仅仅是十几美元的加工成本。

　　在这种情况下，良品率不要说3成，就是1成，甚至只有百分之一，也必须要上。

　　当然，良品率还是需要提高的。

　　良品率的提高，就是个磨耐心，磨时间的过程，没有什么了不起的。

　　LED时代，大家经历过，LCD，现在正在经历。所有人都有了信心。

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　　“还真有好东西啊！这个项目一做成，你可就牛B大了啊！”

　　看着老乡在黑板上，一顿比比划划，两个人都听明白了。

　　这个项目如果做成。它的影响力实在是太大了。

　　TFT-LCD，以前中国没有，你做出来了，填补了国内空白，别人会夸一下。但他绝对意识不到这里的难度真有这么大。

　　但晶圆一样吗？

　　中国在一微米这个地方卡了多久？

　　1微米的技术攻关，国家在531计划时期（1986年），就提出来了。而等到908工程的投产，已经是1997年的事情。

　　前后两个国家级计划，整整走了11年！就是到现在，1992年，也已经走6年多了。

　　而且更重要的是，这个技术的极限，不仅仅是用2微米设备来生产1微米芯片。理论上来讲，它甚至可以实现微米！

　　连909计划都不需要了！

　　三个国家级计划！

　　继续提高可不可以，例如微米？

　　呵呵！

　　凭此一个技术，中国就可以在半导体工艺上，实现对世界先进水平的反超！

　　更重要的是，这个技术需要什么开发成本吗？

　　所有的设备，都是现有设备啊！

　　这个项目只要做成，不仅仅是成永兴，包括严亮和叶静，都会名声大噪。一次搞出三个工程院院士，绝对没有问题。

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